檢測信息（部分）

問：曝光機的產品信息包括哪些內容？

答：曝光機是一種用于光刻工藝的核心設備，主要用于半導體、顯示面板、PCB等領域，通過光學系統將掩膜版圖形精確轉移到感光材料上。

問：曝光機的檢測用途范圍是什么？

答：檢測范圍涵蓋設備性能驗證、光學系統校準、光源穩定性測試、對位精度分析等，適用于研發、生產質控及設備維護等場景。

問：檢測概要包含哪些核心內容？

答：檢測概要包括光源參數分析、機械運動精度、環境適應性測試、軟件控制邏輯驗證及設備整體穩定性評估。

檢測項目（部分）

• 光源波長穩定性：衡量曝光光源波長波動范圍，影響圖形轉移精度。
• 曝光均勻性：檢測光強在曝光區域的分布一致性。
• 對位精度（Overlay）：評估掩膜版與基板的對準誤差。
• 光強衰減率：監測光源輸出強度隨時間的變化趨勢。
• 機械運動重復性：驗證平臺移動的定位重復精度。
• 光學畸變率：量化透鏡系統導致的圖形形變程度。
• 環境溫控穩定性：測試設備在溫濕度變化下的性能表現。
• 振動噪聲等級：評估機械運轉時產生的振動干擾。
• 軟件響應時間：測量控制系統指令執行延遲。
• 掩膜版吸附力：檢測真空吸附系統的可靠性。
• 聚焦深度（DOF）：驗證光學系統的有效焦深范圍。
• 線寬一致性：評估曝光后線寬尺寸的偏差率。
• 能量密度分布：分析單位面積內的光能分布均勻度。
• 塵埃粒子計數：監測曝光腔體內潔凈度水平。
• 曝光劑量控制：測試光強與曝光時間的協同精度。
• 自動對焦精度：驗證動態調焦系統的準確性。
• 掩膜版變形量：檢測高溫環境下掩膜版的熱膨脹系數。
• 系統功耗效率：評估設備能效比及散熱性能。
• 緊急停機響應：測試安全保護機制的觸發時效。
• 多波長兼容性：驗證設備支持不同光源波長的能力。

檢測范圍（部分）

• 半導體步進式曝光機
• PCB線路板接觸式曝光機
• 納米壓印光刻設備
• OLED面板投影曝光機
• 激光直寫曝光設備
• DUV深紫外曝光機
• EUV極紫外曝光系統
• 掩膜版對準檢測儀
• 卷對卷（R2R）曝光設備
• 晶圓級封裝曝光機
• 微機電系統（MEMS）光刻機
• 3D曲面曝光設備
• 生物芯片光刻系統
• 柔性電路曝光設備
• 多光束陣列曝光機
• 全自動連線式曝光機
• 科研級微型曝光臺
• 大尺寸面板掃描曝光機
• 高精度雙面對準曝光機
• 特種材料專用曝光設備

檢測儀器（部分）

• 激光干涉儀
• 光譜輻射計
• 高精度光功率計
• 六軸運動測量系統
• 納米級輪廓儀
• 高速數據采集卡
• 潔凈度粒子計數器
• 紅外熱成像儀
• 顯微成像分析系統
• 多通道振動分析儀

檢測標準（部分）

SJ/T 31120-1994 KSM－MJB3型掩膜對準曝光機完好要求和檢查評定方法

SJ/T 31113-1994 DB－3型電子束曝光機完好要求和檢查評定方法

SJ/T 31121-1994 JB－VⅡ型掩膜對準曝光機完好要求和檢查評定方法

SJ/T 31119-1994 掩膜對準曝光機完好要求和檢查評定方法

SJ/T 11079-1996 掩模對準曝光機通用技術條件

SJ/T 10274-1991 掩模對準曝光機測試方法

SJ 20711-1998 分步投影曝光機通用規范

暫無更多檢測標準，請聯系在線工程師。

檢測優勢

檢測資質（部分）

檢測流程

1、中析檢測收到客戶的檢測需求委托。

2、確立檢測目標和檢測需求

3、所在實驗室檢測工程師進行報價。

4、客戶前期寄樣，將樣品寄送到相關實驗室。

5、工程師對樣品進行樣品初檢、入庫以及編號處理。

6、確認檢測需求，簽定保密協議書，保護客戶隱私。

7、成立對應檢測小組，為客戶安排檢測項目及試驗。

8、7-15個工作日完成試驗，具體日期請依據工程師提供的日期為準。

9、工程師整理檢測結果和數據，出具檢測報告書。

10、將報告以郵遞、傳真、電子郵件等方式送至客戶手中。

檢測優勢

1、旗下實驗室用于CMA/CNAS/ISO等資質、高新技術企業等多項榮譽證書。

2、檢測數據庫知識儲備大，檢測經驗豐富。

3、檢測周期短，檢測費用低。

4、可依據客戶需求定制試驗計劃。

5、檢測設備齊全，實驗室體系完整

6、檢測工程師 知識過硬，檢測經驗豐富。

7、可以運用36種語言編寫MSDS報告服務。

8、多家實驗室分支，支持上門取樣或寄樣檢測服務。

檢測實驗室（部分）

結語

以上為曝光機檢測的檢測服務介紹,如有其他疑問可聯系在線工程師！